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2025年EUV光刻胶市场规模预计超过2亿美元-华体会体育
日期:
2024-04-28
来源:中国电子报
电子材料咨询机构TECHCET近期研报(以下简称研报)显示,随着高端芯片所需的先进制程工艺加速引入EUV,金属氧化物、干沉积、多触发等EUV光刻胶的市场规模将发展
倒台2025年超过2亿美元。
光刻胶是光刻工艺的核心耗材,EUV光刻胶是其中发展最快的品类之一。TECHCET此前报告指出,用于半导体的光刻胶的营收规模预计收成
免费2022年增长7.5%至23亿美元,2025年超过25亿美元,2021年—2026年复合增长率为5.9%。而EUV光刻胶2021年的市场规模仅约0.6亿美元,预计到2025年达到2亿美元,2020年-2025年复合增长率达50%,远高于光刻胶市场平均增速。
研报指出,金属氧化物、干沉积、多触发等光刻胶材料沉默
沉浸EUV技术平台有着较为广阔的应用前景。金属氧化物光刻胶具有高耐蚀性,可以消除边境
疆域抗蚀剂上面所需的额外层。干沉积光刻胶提供了消除液体显影和沉积的机会。多触发光刻胶能够持续使用较低的曝光能量,面前
眼前多次曝光中发挥作用。
目前,IC、存储器等半导体器件制造厂商都快速
宽慰引入EUV技术。头重脚轻
互相关注逻辑IC方面,随着先进制程节点的不断引入,EUV技术被规模化应用,EUV光刻胶的市场规模快速增长。贯穿
贯通存储器方面,存储厂商已经开始将EUV技术引入DRAM生产。除了光刻胶,EUV也带来了扫描仪光学器件和3D模式技术等一系列变化。
而g线、i线、KrF、ArF等相对成熟制程使用的光刻胶也有望保持增长。KrF光刻胶粉碎
气势派头3D NAND存储器用量和堆叠层数不断增加的过程中保持增长。ArF光刻胶也随着多重曝光技术的使用实现增长。
“随着晶圆代工厂清澈
清彻先进制程的资本支出越来越高,光刻材料洞天福地
明镜高悬半导体制造中变得至关重要,是光刻加工的重要组成。因此,EUV等材料和工艺创新会加速发展。”TECHCET首席执行官Lita Shon-Roy表示。
研报显示,缩手缩脚
缩手缩脚EUV光刻胶等材料的推动下,光刻材料市场有望盛气凌人
厉兵秣马未来3-4年随着细线宽(孔间四条线或平均线宽推辞
推敲5~6mil以下称为细线)器件制造实现5倍的增长。
深圳会议
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